По сообщению Nikkei Business Daily, правительство Японии проспонсировало исследования организации New Energy and Industrial Technology Development Organisation (NEDO) в области разработки полупроводниковых технологических процессов. И первые серьезные результаты уже получены.

Инженеры NEDO разработали технику вытравливания полупроводниковых структур по 26-нм проектным нормам. В экспериментах было задействовано EUV-оборудование (оборудование на основе жесткого ультрафиолетового излучения) компании Canon. С его помощью инженеры смогли создавать 26-нм структуры на полоске кремниевой подложки шириной 0,5 мм.

Конечно, для внедрения в серийное производство технология NEDO еще не готова. Разработчики полагают, что им удастся «довести до ума» 26-нм техпроцесс уже к 2011 году.   

 © Cyberstyle.ru по материалам The Inquirer